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21世纪，是电子信息世纪，而电子信息的发展，全靠ic芯片的发展。

而ic芯片，便是把一个电路中所需的晶体管、电阻、电容和电感等元件及布线互连一起，制作在一小块或几小块半导体晶片上，这些东西做得越小，就能排布得越多，运算的速度也就越快。

因此，ic芯片的发展，实质便是集成电路不断微型化的发展。

而所谓的光刻机，便是制造电脑芯片的关键机器，以各种波长的光源对芯片进行光刻，将芯片制造出来。

而光刻机也分为各种级别，如今中洲区只掌握了16纳米工艺的光刻技术，而世界最先进的光刻机则能达到5纳米。

而这种光刻机，便是euv光刻机。

众所周知，人类肉眼的可见光只占全宇宙光源的极为微小的一段，也就是所谓的‘红橙黄绿蓝靛紫’，其中越靠近红光波长越长，越靠近紫光波长越短。

而红光之上，还有红外线、微波、无线电波等超长波，紫光之下，也有紫外线、x射线、伽马射线等等超短波。

而极紫外光，便是低于紫光，却又高于x射线的一段不可见光，波长最低为135纳米，能制造出只有个位数纳米级工艺的芯片。

而这种euv光刻机，全世界也只有一家厂商能制造出来，那就是荷兰的阿斯麦公司。

不过之所以达到这个成就，也并非是单独一家公司的成果，而是由世界上十多个国家共同配合的结果，镜头和光源都是欧洲各国的，里面的光学组件、控制芯片又都来自于北美洲。

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