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“光源吗……”王向中闻言，也是陷入了思索当中。

的确是如林坚博士说的那般，照明系统，也就是光源，才是真正制约光刻水平发展的关键因素，其它的事情都能想办法取巧，无论是浸润式光刻，亦或是衍射光栅，它都是基于现有光源条件下的改良法。

而高压汞灯的365nm光波波长就决定了，它不可能制作出100nm以下制程的CPU，具有非常严重的时代局限性。

现在国际上最尖端的ArF光刻机所采用的DUV光源波长已经下降到了193纳米，从理论数值来计算，它最高可将分辨率提升到65nm，也就是目前全球最先进光刻工艺的极限。

现在用i线光刻机，还用高压汞灯这一套，不可能斗得过他们。

“您说得有道理，不过也未必，也许华夏今后几年就能跟上，把深紫外线照明系统给研究到位呢？”王向中半开玩笑道。

林坚闻言也是摇了摇头，道：“深紫外线照明没有这么简单。我看你们的资料，目前你们还在研究气压对成像系统的影响研究，不要怪我讲话难听，这种技术也就只能用于g线和i线光刻机上。”

“DUV深紫外线，也就是波长低于350纳米的电磁波，是用不到这项研究的，”他补充道：“尤其是VUV真空紫外（波长低于350纳米的电磁波）技术，只能在真空环境下使用，所以和气压毫无关系，这个你明白吧？”

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