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想要进入研究院的车间。

那复杂程度不亚于西天取经。

防护服得穿上。

然后风吹，将身上的尘埃都吹掉。

在经过紫外线照射等等环节。

从准备到进入，差不多要花上一个多小时。

没办法，光刻机对于室内清洁度要求实在是太高了。

光刻机说白了就是通过一系列的光源能量、形态约束，将光束投射到画有电路图的掩膜。

再经过光学补偿，将电路图成比例缩小投射到硅晶片，最后通过化学方法显影，得到刻在硅晶片上的电路图。

如此，光刻机在工作中最重要的当然是光了。

光在哪里传播呢？自然是空气。

这也就是为什么光刻机的工作环境要求非常高的洁净度。

哪怕是一点灰尘，都能将生产出来的芯片直接报废。

现在91年，光刻机的精密度还没有那么高。

这台从阿斯麦过来的机器，还远远没有达到后世的7纳米，甚至5纳米。

所以，对车间的要求在当下看起来是非常高，但自己人还是能搞一搞。

等到后世就坏菜了。

光刻机的精密度提高，对环境的要求更加苛刻和变态。

在国际上通用标准来说，手术室的要求的环境是ISO5级。

这也是常人能接触到最干净的环境了。

但是，芯片生产因为特别精细。

极其微小的杂质都会影响产品的质量。

所以，在后世，生产芯片的车间竟然要求ISO1级或者ISO2级的最高水平！

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