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时刻关注光刻机技术进展的孙健，如今还没有听说台积电的林博士在国际半导体研讨会上提出研发“沉浸式光刻”的设想。

“沉浸式光刻”就是在晶圆光刻胶上方加一层水，水的介质折射率是144，193nm144≈134nm，在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了NA，使得193nm波长的能等效出134nm的波长。

前世，林博士拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍美国、德国、日本等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。

警告台积电高层，让林博士“不要搅局”。

实力最差的ASML决定赌一把，相比之前在传统干式微影上的投入，押注浸润式技术更有可能以小博大，于是和林博士一拍即合，仅用一年时间，就拼全力造出了第一台样机，并先后夺下IBM和台积电等大客户的订单。

和Canon主推的157nm波长干式光刻机被市场逐渐抛弃，两家公司由盛转衰。

“孙先生，公司和NVIDIA的官司败了，公司需要赔偿4500万美元，但公司一下子拿不出这么多现金，银行也不愿意放款，除了容许NVIDIA收购，公司已经没有其他方法，但公司上下不愿意被NVIDIA收购，我代表公司董事会请求AITC投资5000万美元，公司增发新股，邀请AITC控股3dfx。”

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