类似的情形和对话?分?别在?欧美、日韩等国的半导体龙头企业内部发?生，他也正在?焦急等待海外华国一个规模不大却令人不敢小觑的科技公司的最新消息。

不过他和国内企业家的愿望不，他在?内心里不断发?恶狠狠的诅咒，尤其欧美国家诅咒最美，但愿蓝河科技的实验结果惨遭滑铁卢！

最好一直滑铁卢，永远不会成功！

很惜他注定会失望。

蓝河科技内，随着盛明安手势的指挥，矗立众人跟前的那台光刻机样机在?漫长的一小时内完成了的第一次验收。

样机看?不见的内部，无数比头发?丝还?细的激光穿过几十个精密镜头后?，准确击中锡液滴靶，处分?散的等离子体被收集，将掩膜版上的图形信息透过缩图透镜完完整整复刻到面的晶圆，曝光晶圆。

一个小时后?，各小组汇报结果。

“完成光刻试验任务，没?有异常。”

“一小时内成功曝光160片晶圆，比目前已知的asml euv nex3400b机型每小时曝光125片晶圆吞吐量多?达35片！套刻误差不超过2nm！”

“数据已全部记录，根据数据计算显示，以在?原样机的基础上将效率提高至?18%，套刻误差提高到2nm以。”

“一片晶圆得芯片数量等于晶圆面积/芯片面积晶圆直径/芯片对角线长，照该公式计算我目前使?用的12英寸晶圆一片得到的芯片数量，不过最后?用的芯片数目得等到封测完毕才知道最终的晶圆良率。”

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